方永奎,邱安娥,张翼,邱万忠

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摘要(Abstract)：

研究了镀液pH值对Ni-P和Ni -Mo -P化学镀镀层的生成速度和镀层中Ni质量分数的影响 .结果表明 ,镀液的pH值不仅影响Ni的沉积速度 ,而且影响镀层中Ni的质量分数 ;镀层生成速度均随镀液pH值增大而出现极大值 ,但两者的位置有所不同 ;随镀液pH值增加 ,Ni-Mo -P镀镀层中w(Ni)出现极大值 ,而Ni-P镀则是pH值增至一定值后w(Ni)趋于平稳 ;镀层的生成速度与镀层中w(Ni)的最高点都出现在相同的酸度下 ,Ni -P镀镀液的最佳pH值为 5 .5 ,而Ni-Mo -P镀镀液的最佳pH值为 6.5 .

关键词(KeyWords)：化学镀;酸度;Ni-P;Ni-Mo-P;镀层

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):黑龙江省自然科学基金资助项目 (E0 0 18)

作者(Author):方永奎,邱安娥,张翼,邱万忠

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参考文献(References)：

• [1] 蔡积庆.化学镀Ni-Mo-P合金[J].电镀和保护,2000,19(4):16～19.

• [2] 王尊本,李俊峰.电镀层中的Ni和Pb分光光度测定[J].贵金属,1999,20(2):33～36.

• [3] 刘彦明.对化学镀镍机理的新看法[J].电镀与环保,1999,19(2):12～14.